PlasCalc 等離子體監測控制儀，實現200nm-1100nm波段內的等離子體測量，通過高級過程控制系統及精密數據存取算法，只需3m就可以獲得測量結果。

PlasCalc 等離子體監測控制儀

PlasCalc 等離子體監測控制儀，實現200nm-1100nm波段內的等離子體測量，通過高級過程控制系統及精密數據存取算法，只需3m就可以獲得測量結果。

特點

光學分辨率1.0nm(FWHM)

光譜范圍 200-1100nm

快速的建模及存儲實驗方法

Recipe編輯器

Recipe編輯器有助于簡單快捷的配置、構建及存儲實驗方法。對一些困難的等離子體工序諸如膜沉積測量、等離子體蝕刻監測、表面潔度監測、等離子體室控制及異常污染、排放監測等，能夠快速簡單的構建模塊過程控制。

多種工具用于等離子體診斷

隨PlasCalc配置的操作軟件，集成的程式編輯器能夠容易實現多種數學算法功能?？蛇x的波長發生器（可以單獨購買）用于類型確認，而波長編輯器可以用于優化信噪比。雙窗口界面用于顯示實際光譜及所有過程控制信息。

PlasCalc 配置說明

重量
5 kg

主要特點：
 

1.0nm（半zui大值全波）光學解析度
200～1100nm波長范圍

快速建立和保存實驗方法 
調制步驟編輯
調制步驟編輯工具可以使用戶簡單、快速地設置、建立和保存實驗方法。利用該工具可以對多數復雜的等離子體過程建立簡便而有效的步驟設置：例如測量薄膜沉積情況、監測等離子蝕刻、檢查表面清潔處理、分析等離子室健康控制情況、監測反常的污染和排放現象等。

用于簡單的等離子體診斷的多重工具
PlasCalc型監控器配有操作軟件，所提供的完整的公式編輯器可以進行所有需要的數學和算法功能。我們同時提供一個可選配的放射波長數據庫，可以另外單獨購買，它能夠提供種類的鑒定；而波長編輯器則使用戶完成信噪比的優化。操作界面包含兩個窗口，可以同時顯示真實的光譜和所有控制過程信息。